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半導體清洗設備
半導體清洗設備核心臭氧放电装置
別名/ alias

清洁臭氧发生器、臭氧超纯水发生器、超高浓度臭氧发生器、臭氧水高效清洗设备;卓康牌臭氧发生器采用平板式放电模组,通过微间隙放电将氧气转化为臭氧。放电单元由高纯度陶瓷组成,放电过程中无金属离子析出。臭氧浓度超过320g / ?(N),在市场上处于顶级水平。它已被许多客户在半导体,FDP和其他电子器件材料制造工艺的干法和湿法工艺中高度重视。

全系列型號/ Full range models

我司核心放電裝置可按照客戶要求進行多種組合,實現不同的臭氧氣體濃度。





臭氧清洗濃度要求/ Ozone cleaning concentration requirements

臭氧清洗可應用于多種行業,不同行業有不同的濃度需求,在光伏行業主要有如下應用:

目前主要应用于制绒工序中替代双氧水、制绒后清洗、镀膜前清洗、替代RCA 清洗、BOE 清洗、黑硅表面清洗、高质量氧化膜生长等;